uv光解凈化設(shè)備的工作流程分析
未知, 2021-02-27 15:40, 次瀏覽
uv光解凈化設(shè)備的工作流程分析
uv光解凈化設(shè)備是工業(yè)除臭的主要設(shè)備,利用紫外燈分解惡臭氣體。在污水處理廠、垃圾廠等工況下具有非常***的除臭效果,除臭效果達(dá)到98%以上。
眾所周知,紫外線是由電磁波組成的,其能量與波長(zhǎng)直接相關(guān)。波長(zhǎng)越短,能量越***。用D波段(波長(zhǎng)范圍170~184.9nm)的真空紫外線照射有機(jī)氣體或惡臭氣體分子。當(dāng)這些氣體分子吸收這種紫外光時(shí),有機(jī)氣體或惡臭氣體分子內(nèi)部由于紫外光本身的能量而發(fā)生裂解,化學(xué)鍵斷裂形成自由原子或基團(tuán)(C*、H*、O*、等)。).同時(shí)混合氣體中的氧氣被紫外光分裂形成游離氧原子并結(jié)合生成臭氧[UV O2→O- O*(活性氧)O* O2→O3(臭氧)];混合氣體中的水蒸氣被紫外光裂解生成羥基[UV H2O→H OH-(羥基)],這些生成的臭氧和羥基具有很強(qiáng)的氧化作用,可以將廢氣分子裂解生成的原子和基團(tuán)(甚至是有機(jī)氣體或惡臭氣體分子)氧化成低分子化合物,不會(huì)產(chǎn)生H2O、CO2等污染。
另外,利用紫外光束可以裂解惡臭氣體中的分子鍵,破壞的核酸(DNA)可以被臭氧氧化,達(dá)到除臭的目的。