uv光解除臭設(shè)備概述

 

uv光解除臭設(shè)備針對(duì)各種惡臭和氣味***域。由于***氣惡臭氣體的***性，自主研發(fā)的新型高效技術(shù)，設(shè)備體積小、占地面積小、能耗低、自動(dòng)控制方便。根據(jù)實(shí)際情況，單級(jí)或多級(jí)串聯(lián)和并聯(lián)使用。uv光解除臭設(shè)備適用于許多不同的場(chǎng)合，如高濃度和深度處理。其中所含的活性游離氧和高能光子，高度靶向降解各種含有醛、烯烴、有機(jī)胺、苯系物等體積5000~80000m3/h廢氣的VOCs，廢氣處理率可達(dá)97%以上。該技術(shù)新穎、安全、廉價(jià)，在行業(yè)內(nèi)具有巨***潛力，將在惡臭氣體處理行業(yè)得到廣泛應(yīng)用。

UV光解除臭設(shè)備利用***殊的高能、高臭氧UV光束照射對(duì)廢氣進(jìn)行裂解，可有效處理廢氣中的分子鏈結(jié)構(gòu)如硫化氫、甲基硫化物、甲硫醇、甲基硫化物、二甲基二硫化物、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC等，這樣有機(jī)或無機(jī)聚合物廢氣化合物的分子鏈可以降解成低分子化合物，如CO2、H2O等。在高能紫外光束的照射下。